爆炸物(wù)探測器(qì)日(rì)常‍↔">保養項目和(hé)方法

2015-04-14

爆炸物(wù)探測器(qì)屬精密電(diàn)子♦¥(zǐ)設備，需要(yào)常态化(huà)的(de)日(rì‍×)常維護保養以保證設備始終處于最佳工(gōng)作(zuò)狀♦★♠α态。日(rì)常維護保養項目和(hé)注意↕>‌事(shì)項介紹如(rú)下(xià)：

一(yī)、設備外(wài)圍各部件(jiàn)的(de)>♦$清潔

1. 注意事(shì)項：請(qǐng)使用(yòng)随機(jī)提供的(de)專用©¥(yòng)清潔工(gōng)具或蘸有(yǒu)無水(shuǐ)酒精的(de±×™↔)幹淨棉布或棉簽。

2. 項目包括觸摸顯示屏、解析器(qì)表面特别是(shì)前段試紙(zhǐ)插™♦∏→槽表面和(hé)後端吸嘴連接處、采樣吸嘴表面。

二、半透膜的(de)清潔和(hé)檢查

1. &n☆∞$bsp; 注意事(shì)項：待設備關機(jī)冷(lěng)卻，佩戴幹淨的(de)手套避免污染。

2. 取下(xià)解析器(qì)和(hé)吸嘴，暴露半透膜。

3. 借助手電(diàn)側光(guāng)照(zhào)射半透膜，目視(shì)檢測半透膜是©®•(shì)否有(yǒu)破損，必要(yào)時(shí↑‍≈♠)按照(zhào)程序更換。

4. 使用(yòng)專用(yòng)清潔棉簽α•¥ 或蘸有(yǒu)無水(shuǐ)酒精的(de)棉簽沿同一(yī)方向擦拭清潔半透膜表面。

5. >✔ 清潔完畢後開(kāi)機(jī)并保持開(kāi)機(jī)狀态15分(fēn)鐘(≠∏♦≈zhōng)以上(shàng)再投入使用(yò₩≠ng)。

三、采樣和(hé)探測器(qì)氣流表的(de)檢測和(hé)氣流調節

1. &nbs↑₩♥₽p; 開(kāi)機(jī)後目視(shì)檢測設備後↑€方的(de)兩個(gè)采樣和(hé)探測器(qì)氣流表。

2. &nbs'"‌p; 正常的(de)流量下(xià)，氣流表的(de)浮π☆♠&子(zǐ)應位于200毫升/分(fēn)鐘(zhōng)&plus→ mn;10%刻度附近(jìn)。

3. &n₹↓✘bsp; 使用(yòng)一(yī)字鐘(zhōng)表螺絲刀(dāo) ♠↔分(fēn)别調節采樣和(hé)探測器(qì)氣流調節電(diàn)位器(qì)>♠₽，将氣流調節至正常範圍。

4. 取下(xià)解析器(qì)，将設備前方采樣氣流表的(de≈λα₹)橡膠管插入采樣吸嘴，目測觀察氣流表讀(dú)數(shù)，正常讀(dγ✘©δú)數(shù)應處于0.2-0.4 SCF×"H之間(jiān)，如(rú)讀(dú)₽₽₹λ數(shù)過低(dī)應使用(yòng)意思螺絲刀♥‍¥(dāo)取下(xià)吸嘴邊過濾器(qì)↔φγ艙蓋取出過濾器(qì)進行(xíng)清潔。

四、設備烤機(jī)

1. 設備拷機(jī)是(shì)通(tōng)過提高(gāo)探測腔和(hé)解析器₹✘(qì)溫度，利用(yòng)高(gāo)溫加速設備殘留污染物(wù)的(de® ∏∑)揮發，快(kuài)速清潔設備進入最佳工(gōng)作(zuò)狀态的(de)重要(yào)☆γ>∑步驟。

2. 在設備使用(yòng)間(jiān)歇期建議(yì)執行(xíng)設備烤機(jī)。

3. &n±‌bsp; 對(duì)于I3E設備，進入設備菜單選擇Ωσ↕“長(cháng)期燃燒”在下(xià)拉菜單中根據間(jiān)歇時(£♦shí)間(jiān)選擇合适的(de)烤機(j≠§ī)時(shí)間(jiān)。設備烤機(jī)完成後會(huì)自εαλ(zì)動結束并進入登錄界面。

4. 對(duì)于IT3設備，可(kě)以在菜單中€↓✔☆選擇“在膜中燃燒”，系統執行(xíng)4小(xiǎo)時(shí ♠←)烤機(jī)程序。

五、季度保養

1. 執行(xíng)以上(shàng)日(rì)常保養的(de)所有(yǒu)項目。

2. ★≥™₩ 設備關機(jī)後佩戴幹淨手套旋下(xià)>β 設備後部試劑艙的(de)艙蓋

4. &•₹πλnbsp; 檢查打印紙(zhǐ)剩餘量及時(shí)更換

5. &nb≥♦↓σsp; 取下(xià)設備後部風(fēng)扇濾網進行(xíng)清潔

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